成本降一半!佳能纳米压印技术对抗ASML,已可生产2nm半导体

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摘要根据日本媒体的报道,佳能面向半导体电路光刻工序推出了搭载自主研发的「纳米压印」技术设备,这套设备可以大幅降低成本以及耗电量,备受半导体厂商的期待,而且目前可以生产为2nm的产品。根...

根据日本媒体的报道,佳能面向半导体电路光刻工序推出了搭载自主研发的「纳米压印」技术设备,这套设备可以大幅降低成本以及耗电量,备受半导体厂商的期待,而且目前可以生产为2nm的产品。

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根据佳能半导体机器业务部长岩本和德的介绍,纳米压印就是把半导体电路图的掩膜压印到晶圆上,在晶圆上只压印一次,就可以在合适的位置形成复杂的二维或者三维电路,如果改进掩膜,甚至可以生产2nm的产品。文章源自玩技e族-https://www.playezu.com/805182.html

纳米压印的特点是设备构造简单,相较于传统刻烧电路的方法,纳米压印的耗电量可降至1/10,设备价格也会便宜很多。据估算,纳米压印1次光刻工序需要的成本可以降至传统光刻设备的一半。文章源自玩技e族-https://www.playezu.com/805182.html

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岩本和德还介绍,在2017年时,佳能便与铠侠、大日本印刷合作开发,纳米压印技术的量产用途的实用化已经有眉目,可以面向客户销售,另外纳米压印技术目前全球只有佳能在做,进入门槛也很高。文章源自玩技e族-https://www.playezu.com/805182.html

2000年左右,日本与尼康曾占据了世界光刻设备很大一部分市场,然而随着荷兰SAML开发出EUV光刻设备,市场随即被洗牌,EUV成为尖端半导体光刻的主流,佳能也流失了大部分市场。文章源自玩技e族-https://www.playezu.com/805182.html

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如今佳能十年磨一剑推出纳米压印技术,有一种要重新夺回光刻市场的架势。不过目前ASML也已经向英特尔交付首台2nm EUV光刻机,短时间能佳能想要依靠纳米压印技术对抗ASML,或许希望并不大。文章源自玩技e族-https://www.playezu.com/805182.html

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